Hugo Manuel Brito Águas
AuthID: R-000-61B
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TÃTULO: Spectroscopic ellipsometry study of amorphous silicon anodically oxidised Full Text
AUTORES: Águas, H; Gonçalves, A; Pereira, L ; Silva, R; Fortunato, E ; Martins, R;
PUBLICAÇÃO: 2003, FONTE: Thin Solid Films, VOLUME: 427, NÚMERO: 1-2
AUTORES: Águas, H; Gonçalves, A; Pereira, L ; Silva, R; Fortunato, E ; Martins, R;
PUBLICAÇÃO: 2003, FONTE: Thin Solid Films, VOLUME: 427, NÚMERO: 1-2
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TÃTULO: New challenges on gallium-doped zinc oxide films prepared by r.f. magnetron sputtering Full Text
AUTORES: Vitor Assunção; Elvira Fortunato ; António Marques; Alexandra Gonçalves; Isabel Ferreira; Hugo Águas; Rodrigo Martins;
PUBLICAÇÃO: 2003, FONTE: Thin Solid Films, VOLUME: 442, NÚMERO: 1-2
AUTORES: Vitor Assunção; Elvira Fortunato ; António Marques; Alexandra Gonçalves; Isabel Ferreira; Hugo Águas; Rodrigo Martins;
PUBLICAÇÃO: 2003, FONTE: Thin Solid Films, VOLUME: 442, NÚMERO: 1-2
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TÃTULO: Large Area Deposition of Polymorphous Silicon by Plasma Enhanced Chemical Vapor Deposition at 27.12 MHz and 13.56 MHz
AUTORES: Águas, H; Silva, V; Fortunato, E ; Lebib, S; Roca i Cabarrocas, P; Ferreira, I; Guimarães, L; Martins, R;
PUBLICAÇÃO: 2003, FONTE: Jpn. J. Appl. Phys. - Japanese Journal of Applied Physics, VOLUME: 42, NÚMERO: Part 1, No. 8
AUTORES: Águas, H; Silva, V; Fortunato, E ; Lebib, S; Roca i Cabarrocas, P; Ferreira, I; Guimarães, L; Martins, R;
PUBLICAÇÃO: 2003, FONTE: Jpn. J. Appl. Phys. - Japanese Journal of Applied Physics, VOLUME: 42, NÚMERO: Part 1, No. 8
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TÃTULO: Influence of the deposition pressure on the properties of transparent and conductive ZnO: Ga thin-film produced by r.f. sputtering at room temperature Full Text
AUTORES: Elvira Fortunato; V. Assunção; A. Marques; Hugo Águas; Rodrigo Martins; Costa, M. E. V.;
PUBLICAÇÃO: 2003
AUTORES: Elvira Fortunato; V. Assunção; A. Marques; Hugo Águas; Rodrigo Martins; Costa, M. E. V.;
PUBLICAÇÃO: 2003
INDEXADO EM: 
Handle
Handle135
TÃTULO: High quality a-Si:H films for MIS device applications Full Text
AUTORES: Águas, H; Fortunato, E ; Silva, V; Pereira, L ; Martins, R;
PUBLICAÇÃO: 2002, FONTE: Thin Solid Films, VOLUME: 403-404
AUTORES: Águas, H; Fortunato, E ; Silva, V; Pereira, L ; Martins, R;
PUBLICAÇÃO: 2002, FONTE: Thin Solid Films, VOLUME: 403-404
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TÃTULO: Influence of a DC grid on silane r.f. plasma properties Full Text
AUTORES: Hugo Águas; Elvira Fortunato ; Rodrigo Martins;
PUBLICAÇÃO: 2002, FONTE: Vacuum, VOLUME: 64, NÚMERO: 3-4
AUTORES: Hugo Águas; Elvira Fortunato ; Rodrigo Martins;
PUBLICAÇÃO: 2002, FONTE: Vacuum, VOLUME: 64, NÚMERO: 3-4
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TÃTULO: Role of the i layer surface properties on the performance of a-Si:H Schottky barrier photodiodes Full Text
AUTORES: Águas, H; Fortunato, E ; Martins, R;
PUBLICAÇÃO: 2002, FONTE: Sensors and Actuators A: Physical, VOLUME: 99, NÚMERO: 1-2
AUTORES: Águas, H; Fortunato, E ; Martins, R;
PUBLICAÇÃO: 2002, FONTE: Sensors and Actuators A: Physical, VOLUME: 99, NÚMERO: 1-2
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TÃTULO: Thin film metal oxide semiconductors deposited on polymeric substrates
AUTORES: Fortunato, E ; Nunes, P; Marques, A; Costa, D; Aguas, H; Ferreira, I; Costa, MEV; Martins, R;
PUBLICAÇÃO: 2001, FONTE: Transport and Microstructural Phenomena in Oxide Electronics in Materials Research Society Symposium - Proceedings, VOLUME: 666
AUTORES: Fortunato, E ; Nunes, P; Marques, A; Costa, D; Aguas, H; Ferreira, I; Costa, MEV; Martins, R;
PUBLICAÇÃO: 2001, FONTE: Transport and Microstructural Phenomena in Oxide Electronics in Materials Research Society Symposium - Proceedings, VOLUME: 666
INDEXADO EM: 
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Scopus NO MEU: 
ORCID
ORCID139
TÃTULO: New steps to improve a-Si:H device stability by design of the interfaces Full Text
AUTORES: Rodrigo Martins; Isabel Ferreira; Ana Cabrita; Hugo Águas; Vitor Silva; Elvira Fortunato;
PUBLICAÇÃO: 2001, FONTE: Advanced Engineering Materials, VOLUME: 3, NÚMERO: 3
AUTORES: Rodrigo Martins; Isabel Ferreira; Ana Cabrita; Hugo Águas; Vitor Silva; Elvira Fortunato;
PUBLICAÇÃO: 2001, FONTE: Advanced Engineering Materials, VOLUME: 3, NÚMERO: 3
INDEXADO EM: Scopus 
CrossRef
Scopus CrossRef140
TÃTULO: Role of ion bombardment on the properties of a-Si:H films Full Text
AUTORES: Hugo Águas; Martins, R; Fortunato, E ;
PUBLICAÇÃO: 2001, FONTE: Vacuum, VOLUME: 60, NÚMERO: 1-2
AUTORES: Hugo Águas; Martins, R; Fortunato, E ;
PUBLICAÇÃO: 2001, FONTE: Vacuum, VOLUME: 60, NÚMERO: 1-2
