111
TÍTULO: Non-equilibrium adsorbed polymer layers via hydrogen bonding  Full Text
AUTORES: Pontes, RS; Raposo, M ; Camilo, CS; Dhanabalan, A; Ferreira, M; Oliveira, ON;
PUBLICAÇÃO: 1999, FONTE: 2nd German/Brazilian Workshop on Applied Surface Science in PHYSICA STATUS SOLIDI A-APPLIED RESEARCH, VOLUME: 173, NÚMERO: 1
INDEXADO EM: Scopus WOS CrossRef: 30
112
TÍTULO: New metallurgical systems for electronic soldering applications  Full Text
AUTORES: Gonçalves, C; Ferreira, J; Fortunato, E; Ferreira, I; Martins, R; A.P Marvão; J.I Martins; Harder, T; Oppelt, R;
PUBLICAÇÃO: 1999, FONTE: Sensors and Actuators A: Physical, VOLUME: 74, NÚMERO: 1-3
INDEXADO EM: CrossRef
NO MEU: ORCID
113
TÍTULO: Performances of nano/amorphous silicon films produced by hot wire plasma assisted technique
AUTORES: Ferreira, I; Aguas, H; Mendes, L; Fernandes, F ; Fortunato, E; Martins, R;
PUBLICAÇÃO: 1998, FONTE: Symposium on Amorphous and Microcrystalline Silicon Technology-1998, at the MRS Spring Meeting in AMORPHOUS AND MICROCRYSTALLINE SILICON TECHNOLOGY-1998, VOLUME: 507
INDEXADO EM: WOS
114
TÍTULO: Influence of the H-2 dilution and filament temperature on the properties of P doped silicon carbide thin films produced by hot-wire technique
AUTORES: Ferreira, I; Aguas, H; Mendes, L; Fernandes, F; Fortunato, E; Cenimat, RM;
PUBLICAÇÃO: 1998, FONTE: Symposium on Amorphous and Microcrystalline Silicon Technology-1998, at the MRS Spring Meeting in AMORPHOUS AND MICROCRYSTALLINE SILICON TECHNOLOGY-1998, VOLUME: 507
INDEXADO EM: WOS
115
TÍTULO: Transport properties of doped silicon oxycarbide microcrystalline films produced by spatial separation techniques  Full Text
AUTORES: MARTINS, R; VIEIRA, M; FERREIRA, I; FORTUNATO, E; GUIMARAES, L;
PUBLICAÇÃO: 1996, FONTE: Solar Energy Materials and Solar Cells, VOLUME: 41-42
INDEXADO EM: CrossRef
NO MEU: ORCID
116
TÍTULO: SILICON OXYCARBIDE MICROCRYSTALLINE LAYERS PRODUCED BY SPATIAL SEPARATION TECHNIQUES
AUTORES: MARTINS, R; FERREIRA, I; FORTUNATO, E ; VIEIRA, M;
PUBLICAÇÃO: 1994, FONTE: Symposium on Amorphous Silicon Technology, at the 1994 MRS Spring Meeting in AMORPHOUS SILICON TECHNOLOGY-1994, VOLUME: 336
INDEXADO EM: Scopus WOS
NO MEU: ORCID
117
TÍTULO: Engineering of plasma deposition systems used for producing large area a-Si:H devices  Full Text
AUTORES: Martins, R; Ferreira, I; Carvalho, N; Guimarães, L;
PUBLICAÇÃO: 1991, FONTE: Journal of Non-Crystalline Solids, VOLUME: 137-138
INDEXADO EM: CrossRef
NO MEU: ORCID
118
TÍTULO: TUNNELING IN VERTICAL MU-C-SI/A-SIXCYOZ-H/MU-C-SI HETEROSTRUCTURES  Full Text
AUTORES: FORTUNATO, E ; MARTINS, R ; FERREIRA, I; SANTOS, M; MACARICO, A; GUIMARAES, L;
PUBLICAÇÃO: 1989, FONTE: JOURNAL OF NON-CRYSTALLINE SOLIDS, VOLUME: 115, NÚMERO: 1-3
INDEXADO EM: WOS
119
TÍTULO: Tunneling in vertical μcSi/aSixCyOz:H/μcSi heterostructures  Full Text
AUTORES: Fortunato, E; Martins, R; Ferreira, I; Santos, M; Maçarico, A; Guimarães, L;
PUBLICAÇÃO: 1989, FONTE: Journal of Non-Crystalline Solids, VOLUME: 115, NÚMERO: 1-3
INDEXADO EM: CrossRef
NO MEU: ORCID
120
TÍTULO: Transport in μc-Six:Cy:Oz:H films prepared by a TCDDC system  Full Text
AUTORES: Martins, R; Willeke, G; Fortunato, E; Ferreira, I; Vieira, M; Santos, M; Maçarico, A; Guimarães, L;
PUBLICAÇÃO: 1989, FONTE: Journal of Non-Crystalline Solids, VOLUME: 114
INDEXADO EM: CrossRef
NO MEU: ORCID
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