Universidade Nova de Lisboa (UNL)
Uma Instituição (Grupo) no Authenticus é uma organização que engloba um conjunto de Investigadores (equipa da Instituição ou do Grupo). O conjunto de Investigadores depende da estrutura organizacional da instituição em cada ano e pode ser definido no perfil da Instituição, na secção “Investigadores”. Com base na equipa definida, o Authenticus produz listas de publicações, estatísticas e relatórios institucionais.
As publicações listadas no perfil da Instituição no Authenticus dependem de dois parâmetros:
- Investigadores associados à equipa da Instituição em cada ano.
- Origem das Publicações.
As publicações associadas à Instituição podem ter três origens:
- Publicações validadas pelos membros da equipa - Inclui todas as publicações validadas pelos membros da equipa; é necessário que a equipa da Instituição esteja definida.
- Todas as Publicadas pelos membros da equipa - Inclui todas as anteriores mais aquelas em que um dos autores foi identificado com um membro da equipa, ainda que não tenha sido validada; é necessário que a equipa da Instituição esteja definida.
- Com Base na Afiliação - inclui todas as publicações que têm a Instituição ou o Grupo mencionado na afiliação; não é necessário que a equipa da Instituição esteja definida mas, por outro lado, não é garantido que todas as publicações da Instituição sejam listadas.
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Publications Count: 12896
451 Team MembersFilters -> Year: 2024
AUTHORS: Rodrigo Gonçalves ; Dinar Camotim ;
PUBLISHED: 2004, SOURCE: Computers & Structures, VOLUME: 82, ISSUE: 17-19, PAGES: 1473-1484
AUTHORS: Barros, SC; Ramos, F; Duarte, M; Fagulha, T; Cruz, B; Fevereiro, M ;
PUBLISHED: 2004, SOURCE: VIRUS GENES, VOLUME: 29, ISSUE: 2, PAGES: 199-210
AUTHORS: Pina, F ; Passaniti, P; Maestri, M; Balzani, V; Vogtle, F; Gorka, M; Lee, SK; Van Heyst, J; Fakhrnabavi, H;
PUBLISHED: 2004, SOURCE: CHEMPHYSCHEM, VOLUME: 5, ISSUE: 4, PAGES: 473-480
AUTHORS: Raniero, L; Martins, R ; Aguas, H ; Zang, S; Ferreira, I ; Pereira, L ; Fortunato, E ; Boufendi, L;
PUBLISHED: 2004, SOURCE: 2nd International Materials Symposium in ADVANCED MATERIALS FORUM II, VOLUME: 455-456, PAGES: 532-535
AUTHORS: Fortunato, E ; Pimentel, A ; Pereira, L ; Goncalves, A; Lavareda, G ; Aguas, H ; Ferreira, I ; Carvalho, CN ; Martins, R ;
PUBLISHED: 2004, SOURCE: 20th International Conference on Amorphous and Microcrystalline Semiconductors in JOURNAL OF NON-CRYSTALLINE SOLIDS, VOLUME: 338, PAGES: 806-809
AUTHORS: Fortunato, E ; Pimentel, A ; Pereira, L ; Goncalves, A; Lavareda, G ; Aguas, H ; Ferreira, I ; Carvalho, CN ; Martins, R ;
PUBLISHED: 2004, SOURCE: Journal of Non-Crystalline Solids, VOLUME: 338-340, ISSUE: 1 SPEC. ISS., PAGES: 806-809
AUTHORS: Fortunato, E ; Pimentel, A ; Goncalves, A; Marques, A; Martins, R ;
PUBLISHED: 2004, SOURCE: Symposium on Integration of Advanced Micro-and Nanoelectronic Devices held at the 2004 MRS Spring Meeting in INTEGRATION OF ADVANCED MICRO-AND NANOELECTRONIC DEVICES-CRITICAL ISSUES AND SOLUTIONS, VOLUME: 811, PAGES: 437-442
AUTHORS: de Sousa, ARS; Raeissi, S; Aguiar Ricardo, A ; Duarte, CMM ; Peters, CJ;
PUBLISHED: 2004, SOURCE: JOURNAL OF SUPERCRITICAL FLUIDS, VOLUME: 29, ISSUE: 1-2, PAGES: 59-67
AUTHORS: Fortunato, E ; Assuncao, V; Goncalves, A; Marques, A; Aguas, H ; Pereira, L ; Ferreira, I ; Vilarinho, P ; Martins, R ;
PUBLISHED: 2004, SOURCE: Symposium on Thin Film and Nano-Structured Materials for Photovoltaics in THIN SOLID FILMS, VOLUME: 451, PAGES: 443-447
AUTHORS: Vieira, M; Fernandes, M ; Louro, P ; Fantoni, A ; Rodrigues, I;
PUBLISHED: 2004, SOURCE: 2nd International Materials Symposium in ADVANCED MATERIALS FORUM II, VOLUME: 455-456, PAGES: 91-95
AUTHORS: Teodoro, OMND ; Moutinho, AMC ;
PUBLISHED: 2004, SOURCE: NUCLEAR INSTRUMENTS & METHODS IN PHYSICS RESEARCH SECTION B-BEAM INTERACTIONS WITH MATERIALS AND ATOMS, VOLUME: 222, ISSUE: 3-4, PAGES: 609-618
AUTHORS: Peres, J ; Oliveira, R ; Serafim, LS ; Lemos, P; Reis, MA ; de Azevedo, SF ;
PUBLISHED: 2004, SOURCE: 14th European Symposium on Computer Aided Process Engineering (ESCAPE-14) in EUROPEAN SYMPOSIUM ON COMPUTER-AIDED PROCESS ENGINEERING - 14, VOLUME: 18, ISSUE: C, PAGES: 733-738
AUTHORS: Kalbasi, R; Dinis, R ; Falconer, D; Banihashemi, A;
PUBLISHED: 2004, SOURCE: 2004 IEEE 5th Workshop on Signal Processing Advances in Wireless Communications, SPAWC in IEEE Workshop on Signal Processing Advances in Wireless Communications, SPAWC, PAGES: 218-222
AUTHORS: Cabrita, EJ ; Afonso, CAM ; Santos, AG ;
PUBLISHED: 2004, SOURCE: TETRAHEDRON, VOLUME: 60, ISSUE: 51, PAGES: 11933-11949
AUTHORS: Lavareda, G ; de Carvalho, CN ; Amaral, A ; Fortunato, E ;
PUBLISHED: 2004, SOURCE: 2nd International Materials Symposium in ADVANCED MATERIALS FORUM II, VOLUME: 455-456, PAGES: 64-68
AUTHORS: Fernandes, FMB ; Silva, RJC ; Gomes, A;
PUBLISHED: 2004, SOURCE: 2nd International Materials Symposium in ADVANCED MATERIALS FORUM II, VOLUME: 455-456, PAGES: 326-329
AUTHORS: Martins, RMS ; Silva, RJC ; Fernandes, FMB ; Pereira, L ; Gordo, PR; Maneira, MJP; Schell, N;
PUBLISHED: 2004, SOURCE: 2nd International Materials Symposium in ADVANCED MATERIALS FORUM II, VOLUME: 455-456, PAGES: 342-345
AUTHORS: Vasco Miguel Moreira do Amaral ;
PUBLISHED: 2004
AUTHORS: Barquinha, P ; Pereira, L ; Aguas, H ; Fortunato, E ; Martins, R ;
PUBLISHED: 2004, SOURCE: Symposium on New Materials in Future Silicon Technology Held at the E-MAR 2004 Spring Meeting in MATERIALS SCIENCE IN SEMICONDUCTOR PROCESSING, VOLUME: 7, ISSUE: 4-6, PAGES: 243-247
AUTHORS: Nedev, N; Beshkov, G; Fortunato, E ; Georgiev, SS; Ivanov, T; Raniero, L; Zhang, SB; Martins, R ;
PUBLISHED: 2004, SOURCE: 2nd International Materials Symposium in ADVANCED MATERIALS FORUM II, VOLUME: 455-456, PAGES: 108-111