Pedro Miguel Félix Brogueira


AuthID: R-000-EZ3

Publicações Confirmadas: 98



81
TÍTULO: Mobility-lifetime product in microdoped amorphous silicon deposited by hot-wipe chemical vapor deposition  Full Text
AUTORES: Conde, JP ; Castanha, R; Brogueira, P ; Chu, V ;
PUBLICAÇÃO: 1998, FONTE: 17th International Conference on Amorphous and Microcrystalline Semiconductors - Science and Technology (ICAMS 17) in JOURNAL OF NON-CRYSTALLINE SOLIDS, VOLUME: 227, NÚMERO: PART 1
INDEXADO EM: Scopus WOS CrossRef
NO MEU: ORCID | ResearcherID
82
TÍTULO: QCD structure of multiparticle production: quark and gluon jets
AUTORES: Brogueira, P ; de Deus, JD ; da Silva, IP;
PUBLICAÇÃO: 1998, FONTE: EUROPEAN PHYSICAL JOURNAL C, VOLUME: 2, NÚMERO: 2
INDEXADO EM: Scopus WOS CrossRef
NO MEU: ORCID | ResearcherID
83
TÍTULO: Amorphous and microcrystalline silicon deposited by low-power electron-cyclotron resonance plasma-enhanced chemical-vapor deposition
AUTORES: Conde, JP ; Schotten, V; Arekat, S; Brogueira, P ; Sousa, R; Chu, V ;
PUBLICAÇÃO: 1997, FONTE: JAPANESE JOURNAL OF APPLIED PHYSICS PART 1-REGULAR PAPERS SHORT NOTES & REVIEW PAPERS, VOLUME: 36, NÚMERO: 1A
INDEXADO EM: Scopus WOS CrossRef
NO MEU: ORCID | ResearcherID
84
TÍTULO: Amorphous and microcrystalline silicon films obtained by hot-wire chemical vapour deposition using high filament temperatures between 1900 and 2500 degrees C
AUTORES: Conde, JP ; Brogueira, P ; Chu, V ;
PUBLICAÇÃO: 1997, FONTE: PHILOSOPHICAL MAGAZINE B-PHYSICS OF CONDENSED MATTER STATISTICAL MECHANICS ELECTRONIC OPTICAL AND MAGNETIC PROPERTIES, VOLUME: 76, NÚMERO: 3
INDEXADO EM: Scopus WOS CrossRef
NO MEU: ORCID | ResearcherID
85
TÍTULO: Amorphous silicon thin-film transistors with a hot-wire active-layer deposited at high growth rate
AUTORES: Chu, V ; Jarego, J; Silva, H; Silva, T; Boucinha, M; Brogueira, P ; Conde, JP ;
PUBLICAÇÃO: 1997, FONTE: Symposium on Amorphous and Microcrystalline Silicon Technology in AMORPHOUS AND MICROCRYSTALLINE SILICON TECHNOLOGY - 1997, VOLUME: 467
INDEXADO EM: Scopus WOS
NO MEU: ORCID | ResearcherID
86
TÍTULO: Doping of amorphous and microcrystalline silicon films deposited by hot-wire chemical vapor deposition using phosphine and trimethylboron
AUTORES: Brogueira, P ; Chu, V ; Ferro, AC ; Conde, JP ;
PUBLICAÇÃO: 1997, FONTE: JOURNAL OF VACUUM SCIENCE & TECHNOLOGY A, VOLUME: 15, NÚMERO: 6
INDEXADO EM: Scopus WOS CrossRef: 27
NO MEU: ORCID | ResearcherID
87
TÍTULO: Improved mobility of amorphous silicon thin-film transistors deposited by hot-wire chemical vapor deposition on glass substrates  Full Text
AUTORES: Chu, V ; Jarego, J; Silva, H; Silva, T; Reissner, M; Brogueira, P ; Conde, JP ;
PUBLICAÇÃO: 1997, FONTE: APPLIED PHYSICS LETTERS, VOLUME: 70, NÚMERO: 20
INDEXADO EM: Scopus WOS CrossRef
NO MEU: ORCID | ResearcherID
88
TÍTULO: Post-deposition annealing and hydrogenation of hot-wire amorphous and microcrystalline silicon films
AUTORES: Conde, JP ; Brogueira, P ; Chu, V ;
PUBLICAÇÃO: 1997, FONTE: Symposium Q on Advances in Microcrystalline and Nanocrystalline Semiconductors - 1996, at the 1996 MRS Fall Meeting in ADVANCES IN MICROCRYSTALLINE AND NANOCRYSTALLINE SEMICONDUCTORS - 1996, VOLUME: 452
INDEXADO EM: Scopus WOS
NO MEU: ORCID | ResearcherID
89
90
TÍTULO: Discrete branching processes, QCD and multiparticle distributions  Full Text
AUTORES: Brogueira, P ; deDeus, JD; daSilva, IP;
PUBLICAÇÃO: 1996, FONTE: PHYSICS LETTERS B, VOLUME: 389, NÚMERO: 3
INDEXADO EM: Scopus WOS CrossRef
NO MEU: ORCID | ResearcherID
Página 9 de 10. Total de resultados: 98.

Um espaço para investigadores e suas Instituições

Links Úteis

Ajuda

© 2025 CRACS & Inesc TEC - All Rights Reserved Política de Privacidade | Terms of Service