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Isabel Maria Mercês Ferreira
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R-000-6CJ
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1991
1990
1989
Order:
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Ano Asc
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IF Scopus Dsc
Título Asc
Título Dsc
Results:
10
20
30
40
50
Publicações Confirmadas: 172
61
TÃTULO:
Study of a-SiC : H buffer layer on nc-Si/a-Si : H solar cells deposited by PECVD technique.
Full Text
AUTORES:
Raniero, L
;
Ferreira, I
;
Aguas, H
;
Zhang, S
;
Fortunato, E
;
Martins, R
;
PUBLICAÇÃO:
2005
,
FONTE:
31st IEEE Photovoltaic Specialists Conference
in
Conference Record of the Thirty-First IEEE Photovoltaic Specialists Conference - 2005
INDEXADO EM:
Scopus
WOS
CrossRef
NO MEU:
ORCID
62
TÃTULO:
Batch processing method to deposit a-Si : H films by PECVD
AUTORES:
Raniero, L
;
Aguas, H
;
Pereira, L
;
Fortunato, E
;
Ferreira, I
;
Martins, R
;
PUBLICAÇÃO:
2004
,
FONTE:
2nd International Materials Symposium
in
ADVANCED MATERIALS FORUM II,
VOLUME:
455-456
INDEXADO EM:
Scopus
WOS
NO MEU:
ORCID
63
TÃTULO:
Characterization of silicon carbide thin films prepared by VHF-PECVD technology
Full Text
AUTORES:
Zhang, S
;
Raniero, L
;
Fortunato, E
;
Pereira, L
; Martins, N;
Canhola, P
;
Ferreira, I
; Nedev, N;
Aguas, H
;
Martins, R
;
PUBLICAÇÃO:
2004
,
FONTE:
20th International Conference on Amorphous and Microcrystalline Semiconductors
in
JOURNAL OF NON-CRYSTALLINE SOLIDS,
VOLUME:
338,
NÚMERO:
1 SPEC. ISS.
INDEXADO EM:
Scopus
WOS
CrossRef
NO MEU:
ORCID
64
TÃTULO:
Characterization of the density of states of polymorphous silicon films produced at 13.56 and 27.12 MHz using CPM and SCLC techniques
Full Text
AUTORES:
Raniero, L;
Pereira, L
; Zhang, S;
Ferreira, I
;
Aguas, H
;
Fortunato, E
;
Martins, R
;
PUBLICAÇÃO:
2004
,
FONTE:
Journal of Non-Crystalline Solids,
VOLUME:
338-340,
NÚMERO:
1 SPEC. ISS.
INDEXADO EM:
Scopus
CrossRef
NO MEU:
ORCID
65
TÃTULO:
Characterization of the density of states of polymorphous silicon films produced at 13.56 and 27.12 MHz using CPM and SCLC techniques
Full Text
AUTORES:
Raniero, L;
Pereira, L
; Zhang, SB;
Ferreira, I
;
Aguas, H
;
Fortunato, E
;
Martins, R
;
PUBLICAÇÃO:
2004
,
FONTE:
20th International Conference on Amorphous and Microcrystalline Semiconductors
in
JOURNAL OF NON-CRYSTALLINE SOLIDS,
VOLUME:
338
INDEXADO EM:
WOS
66
TÃTULO:
Composition, structure and optical characteristics of polymorphous silicon films deposited by PECVD at 27.12 MHz
AUTORES:
Martins, R
;
Aguas, H
;
Ferreira, I
;
Fortunato, E
; Raniero, L; Cabarrocas, PRI;
PUBLICAÇÃO:
2004
,
FONTE:
2nd International Materials Symposium
in
ADVANCED MATERIALS FORUM II,
VOLUME:
455-456
INDEXADO EM:
Scopus
WOS
CrossRef
:
1
NO MEU:
ORCID
67
TÃTULO:
Detection limits of a nip a-Si:H linear array position sensitive detector
AUTORES:
Martins, R
; Costa, D;
Aguas, H
; Soares, F; Marques, A;
Ferreira, I
; Borges, P;
Fortunato, E
;
PUBLICAÇÃO:
2004
,
FONTE:
Amorphous and Nanocrystalline Silicon Science and Technology - 2004
in
Materials Research Society Symposium Proceedings,
VOLUME:
808
INDEXADO EM:
Scopus
NO MEU:
ORCID
68
TÃTULO:
Effect of an interfacial oxide layer in the annealing behaviour of Au/a-Si : H MIS photodiodes
Full Text
AUTORES:
Aguas, H
;
Pereira, L
;
Ferreira, I
;
Ramos, AR
;
Viana, AS
; Andreu, J;
Vilarinho, P
;
Fortunato, E
;
Martins, R
;
PUBLICAÇÃO:
2004
,
FONTE:
20th International Conference on Amorphous and Microcrystalline Semiconductors
in
JOURNAL OF NON-CRYSTALLINE SOLIDS,
VOLUME:
338,
NÚMERO:
1 SPEC. ISS.
INDEXADO EM:
Scopus
WOS
NO MEU:
ORCID
|
ResearcherID
69
TÃTULO:
Effect of annealing on gold rectifying contacts in amorphous silicon
AUTORES:
Aguas, H
;
Pereira, L
;
Ferreira, I
;
Ramos, AR
;
Viana, AS
; Andreu, J;
Vilarinho, P
;
Fortunato, E
;
Martins, R
;
PUBLICAÇÃO:
2004
,
FONTE:
2nd International Materials Symposium
in
ADVANCED MATERIALS FORUM II,
VOLUME:
455-456
INDEXADO EM:
Scopus
WOS
NO MEU:
ORCID
|
ResearcherID
70
TÃTULO:
Ethanol vapour detector based in porous a-Si : H films produced by HW-CVD technique
Full Text
AUTORES:
Ferreira, I
;
Fortunato, E
;
Martins, R
;
PUBLICAÇÃO:
2004
,
FONTE:
Symposium on New Materials and Technologies in Sensor Applications
in
SENSORS AND ACTUATORS B-CHEMICAL,
VOLUME:
100,
NÚMERO:
1-2
INDEXADO EM:
Scopus
WOS
CrossRef
NO MEU:
ORCID
|
ResearcherID
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