Rodrigo Ferrao Paiva Martins
AuthID: R-000-FKV
391
TÃTULO: Fast and cheap method to qualitatively measure the thickness and uniformity of ZrO2 thin films Full Text
AUTORES: Hugo Águas; António Marques; Rodrigo Martins; Elvira Fortunato;
PUBLICAÇÃO: 2001, FONTE: Materials Science in Semiconductor Processing, VOLUME: 4, NÚMERO: 1-3
AUTORES: Hugo Águas; António Marques; Rodrigo Martins; Elvira Fortunato;
PUBLICAÇÃO: 2001, FONTE: Materials Science in Semiconductor Processing, VOLUME: 4, NÚMERO: 1-3
392
TÃTULO: Influence of the Plasma Regime on the Structural, Optical, Electrical and Morphological Properties of a-Si:H Thin Films
AUTORES: Hugo Águas; Rodrigo Martins; Yuri Nunes ; Manuel J.P Maneira; Elvira Fortunato;
PUBLICAÇÃO: 2001, FONTE: Materials Science Forum, VOLUME: 382
AUTORES: Hugo Águas; Rodrigo Martins; Yuri Nunes ; Manuel J.P Maneira; Elvira Fortunato;
PUBLICAÇÃO: 2001, FONTE: Materials Science Forum, VOLUME: 382
393
TÃTULO: Silicon films produced by PECVD under powder formation conditions
AUTORES: Martins, R; Aguas, H ; Silva, V; Ferreira, I; Cabrita, A; Fortunato, E ;
PUBLICAÇÃO: 2000, FONTE: 5th European Workshop on Dusty and Collidal Plasmas in PLASMA PROCESSING AND DUSTY PARTICLES, VOLUME: 382
AUTORES: Martins, R; Aguas, H ; Silva, V; Ferreira, I; Cabrita, A; Fortunato, E ;
PUBLICAÇÃO: 2000, FONTE: 5th European Workshop on Dusty and Collidal Plasmas in PLASMA PROCESSING AND DUSTY PARTICLES, VOLUME: 382
INDEXADO EM: 
WOS
WOS NO MEU: ResearcherID
ResearcherID394
TÃTULO: Plasma diagnostics of a PECVD system using different R.F. electrode configurations Full Text
AUTORES: Águas, H; Martins, R; Fortunato, E;
PUBLICAÇÃO: 2000, FONTE: Vacuum, VOLUME: 56, NÚMERO: 1
AUTORES: Águas, H; Martins, R; Fortunato, E;
PUBLICAÇÃO: 2000, FONTE: Vacuum, VOLUME: 56, NÚMERO: 1
395
TÃTULO: Study of the effect of different plasma-enhanced chemical vapour deposition reactor configurations on the properties of hydrogenated amorphous silicon thin films Full Text
AUTORES: águas H.; Silva V.; Ferreira I.; Fortunato E.; Martins R.;
PUBLICAÇÃO: 2000, FONTE: Philosophical Magazine B: Physics of Condensed Matter; Statistical Mechanics, Electronic, Optical and Magnetic Properties, VOLUME: 80, NÚMERO: 4
AUTORES: águas H.; Silva V.; Ferreira I.; Fortunato E.; Martins R.;
PUBLICAÇÃO: 2000, FONTE: Philosophical Magazine B: Physics of Condensed Matter; Statistical Mechanics, Electronic, Optical and Magnetic Properties, VOLUME: 80, NÚMERO: 4
396
TÃTULO: Performances exhibited by large area ITO layers produced by r.f. magnetron sputtering Full Text
AUTORES: Baı́a, I; Quintela, M; Mendes, L; Nunes, P; Martins, R;
PUBLICAÇÃO: 1999, FONTE: Thin Solid Films, VOLUME: 337, NÚMERO: 1-2
AUTORES: Baı́a, I; Quintela, M; Mendes, L; Nunes, P; Martins, R;
PUBLICAÇÃO: 1999, FONTE: Thin Solid Films, VOLUME: 337, NÚMERO: 1-2
397
TÃTULO: New metallurgical systems for electronic soldering applications Full Text
AUTORES: Gonçalves, C; Ferreira, J; Fortunato, E; Ferreira, I; Martins, R; A.P Marvão; J.I Martins; Harder, T; Oppelt, R;
PUBLICAÇÃO: 1999, FONTE: Sensors and Actuators A: Physical, VOLUME: 74, NÚMERO: 1-3
AUTORES: Gonçalves, C; Ferreira, J; Fortunato, E; Ferreira, I; Martins, R; A.P Marvão; J.I Martins; Harder, T; Oppelt, R;
PUBLICAÇÃO: 1999, FONTE: Sensors and Actuators A: Physical, VOLUME: 74, NÚMERO: 1-3
398
TÃTULO: Role of the collecting resistive layer on the static characteristics of 2D a-Si : H thin film position sensitive detector
AUTORES: Fortunato, E; Martins, R;
PUBLICAÇÃO: 1998, FONTE: Symposium on Amorphous and Microcrystalline Silicon Technology-1998, at the MRS Spring Meeting in AMORPHOUS AND MICROCRYSTALLINE SILICON TECHNOLOGY-1998, VOLUME: 507
AUTORES: Fortunato, E; Martins, R;
PUBLICAÇÃO: 1998, FONTE: Symposium on Amorphous and Microcrystalline Silicon Technology-1998, at the MRS Spring Meeting in AMORPHOUS AND MICROCRYSTALLINE SILICON TECHNOLOGY-1998, VOLUME: 507
INDEXADO EM: WOS
WOS NO MEU: ResearcherID
ResearcherID399
TÃTULO: Performances of nano/amorphous silicon films produced by hot wire plasma assisted technique
AUTORES: Ferreira, I; Aguas, H; Mendes, L; Fernandes, F ; Fortunato, E; Martins, R;
PUBLICAÇÃO: 1998, FONTE: Symposium on Amorphous and Microcrystalline Silicon Technology-1998, at the MRS Spring Meeting in AMORPHOUS AND MICROCRYSTALLINE SILICON TECHNOLOGY-1998, VOLUME: 507
AUTORES: Ferreira, I; Aguas, H; Mendes, L; Fernandes, F ; Fortunato, E; Martins, R;
PUBLICAÇÃO: 1998, FONTE: Symposium on Amorphous and Microcrystalline Silicon Technology-1998, at the MRS Spring Meeting in AMORPHOUS AND MICROCRYSTALLINE SILICON TECHNOLOGY-1998, VOLUME: 507
INDEXADO EM: WOS
WOS NO MEU: ResearcherID
ResearcherID400
TÃTULO: Performances presented by photochemical sensors based on crystalline and amorphous silicon MIS structures
AUTORES: Fortunato, E ; Malik, A; Martins, R;
PUBLICAÇÃO: 1998, FONTE: 12th European Conference on Solid-State Transducers - 9th UK Conference on Sensors and Their Applications in EUROSENSORS XII, VOLS 1 AND 2
AUTORES: Fortunato, E ; Malik, A; Martins, R;
PUBLICAÇÃO: 1998, FONTE: 12th European Conference on Solid-State Transducers - 9th UK Conference on Sensors and Their Applications in EUROSENSORS XII, VOLS 1 AND 2
INDEXADO EM: WOS
WOS NO MEU: 
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