1
TÍTULO: Optoelectronic and structural properties of amorphous silicon-carbon alloys deposited by low-power electron-cyclotron resonance plasma-enhanced chemical-vapor deposition  Full Text
AUTORES: Conde, JP ; Chu, V ; da Silva, MF; Kling, A ; Dai, Z; Soares, JC ; Arekat, S; Fedorov, A ; Berberan Santos, MN ; Giorgis, F; Pirri, CF;
PUBLICAÇÃO: 1999, FONTE: JOURNAL OF APPLIED PHYSICS, VOLUME: 85, NÚMERO: 6
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2
TÍTULO: Amorphous and microcrystalline silicon deposited by low-power electron-cyclotron resonance plasma-enhanced chemical-vapor deposition
AUTORES: Conde, JP ; Schotten, V; Arekat, S; Brogueira, P ; Sousa, R; Chu, V ;
PUBLICAÇÃO: 1997, FONTE: JAPANESE JOURNAL OF APPLIED PHYSICS PART 1-REGULAR PAPERS SHORT NOTES & REVIEW PAPERS, VOLUME: 36, NÚMERO: 1A
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4
TÍTULO: LOW FILAMENT TEMPERATURE DEPOSITION OF A-SI-H BY HOT-WIRE CHEMICAL-VAPOR-DEPOSITION  Full Text
AUTORES: BROGUEIRA, P ; CONDE, JP ; AREKAT, S; CHU, V ;
PUBLICAÇÃO: 1995, FONTE: JOURNAL OF APPLIED PHYSICS, VOLUME: 78, NÚMERO: 6
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5
TÍTULO: Low filament temperature deposition of a-Si:H by hot-wire chemical vapor deposition  Full Text
AUTORES: Brogueira, P; Conde, JP; Arekat, S; Chu, V;
PUBLICAÇÃO: 1995, FONTE: J. Appl. Phys. - Journal of Applied Physics, VOLUME: 78, NÚMERO: 6
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