Elvira Maria Correia Fortunato
AuthID: R-000-4M5
511
TÃTULO: Fast and cheap method to qualitatively measure the thickness and uniformity of ZrO2 thin films Full Text
AUTORES: Hugo Águas; António Marques; Rodrigo Martins; Elvira Fortunato;
PUBLICAÇÃO: 2001, FONTE: Materials Science in Semiconductor Processing, VOLUME: 4, NÚMERO: 1-3
AUTORES: Hugo Águas; António Marques; Rodrigo Martins; Elvira Fortunato;
PUBLICAÇÃO: 2001, FONTE: Materials Science in Semiconductor Processing, VOLUME: 4, NÚMERO: 1-3
512
TÃTULO: Influence of the Plasma Regime on the Structural, Optical, Electrical and Morphological Properties of a-Si:H Thin Films
AUTORES: Hugo Águas; Rodrigo Martins; Yuri Nunes ; Manuel J.P Maneira; Elvira Fortunato;
PUBLICAÇÃO: 2001, FONTE: Materials Science Forum, VOLUME: 382
AUTORES: Hugo Águas; Rodrigo Martins; Yuri Nunes ; Manuel J.P Maneira; Elvira Fortunato;
PUBLICAÇÃO: 2001, FONTE: Materials Science Forum, VOLUME: 382
513
TÃTULO: Plasma diagnostics of a PECVD system using different R.F. electrode configurations Full Text
AUTORES: Águas, H; Martins, R; Fortunato, E;
PUBLICAÇÃO: 2000, FONTE: Vacuum, VOLUME: 56, NÚMERO: 1
AUTORES: Águas, H; Martins, R; Fortunato, E;
PUBLICAÇÃO: 2000, FONTE: Vacuum, VOLUME: 56, NÚMERO: 1
514
TÃTULO: Study of the effect of different plasma-enhanced chemical vapour deposition reactor configurations on the properties of hydrogenated amorphous silicon thin films Full Text
AUTORES: águas H.; Silva V.; Ferreira I.; Fortunato E.; Martins R.;
PUBLICAÇÃO: 2000, FONTE: Philosophical Magazine B: Physics of Condensed Matter; Statistical Mechanics, Electronic, Optical and Magnetic Properties, VOLUME: 80, NÚMERO: 4
AUTORES: águas H.; Silva V.; Ferreira I.; Fortunato E.; Martins R.;
PUBLICAÇÃO: 2000, FONTE: Philosophical Magazine B: Physics of Condensed Matter; Statistical Mechanics, Electronic, Optical and Magnetic Properties, VOLUME: 80, NÚMERO: 4
515
TÃTULO: Thin Film Position Sensitive Detectors: From 1D to 3D Applications
AUTORES: Rodrigo Martins; Elvira Fortunato;
PUBLICAÇÃO: 2000, FONTE: Technology and Applications of Amorphous Silicon - Springer Series in Materials Science
AUTORES: Rodrigo Martins; Elvira Fortunato;
PUBLICAÇÃO: 2000, FONTE: Technology and Applications of Amorphous Silicon - Springer Series in Materials Science
516
TÃTULO: Influence of the Electrical and Structural Properties of Tin Oxide on the Performances of Combustible Gas Sensors
AUTORES: Andreia M Lopes; Patricia Nunes; Paula Vilarinho; Regina Monteiro; Elvira Fortunato; Rodrigo Martins;
PUBLICAÇÃO: 2000, FONTE: Functional Materials
AUTORES: Andreia M Lopes; Patricia Nunes; Paula Vilarinho; Regina Monteiro; Elvira Fortunato; Rodrigo Martins;
PUBLICAÇÃO: 2000, FONTE: Functional Materials
517
TÃTULO: New metallurgical systems for electronic soldering applications Full Text
AUTORES: Gonçalves, C; Ferreira, J; Fortunato, E; Ferreira, I; Martins, R; A.P Marvão; J.I Martins; Harder, T; Oppelt, R;
PUBLICAÇÃO: 1999, FONTE: Sensors and Actuators A: Physical, VOLUME: 74, NÚMERO: 1-3
AUTORES: Gonçalves, C; Ferreira, J; Fortunato, E; Ferreira, I; Martins, R; A.P Marvão; J.I Martins; Harder, T; Oppelt, R;
PUBLICAÇÃO: 1999, FONTE: Sensors and Actuators A: Physical, VOLUME: 74, NÚMERO: 1-3
518
TÃTULO: Role of the collecting resistive layer on the static characteristics of 2D a-Si : H thin film position sensitive detector
AUTORES: Fortunato, E; Martins, R;
PUBLICAÇÃO: 1998, FONTE: Symposium on Amorphous and Microcrystalline Silicon Technology-1998, at the MRS Spring Meeting in AMORPHOUS AND MICROCRYSTALLINE SILICON TECHNOLOGY-1998, VOLUME: 507
AUTORES: Fortunato, E; Martins, R;
PUBLICAÇÃO: 1998, FONTE: Symposium on Amorphous and Microcrystalline Silicon Technology-1998, at the MRS Spring Meeting in AMORPHOUS AND MICROCRYSTALLINE SILICON TECHNOLOGY-1998, VOLUME: 507
INDEXADO EM: WOS
NO MEU: ResearcherID
519
TÃTULO: Performances of nano/amorphous silicon films produced by hot wire plasma assisted technique
AUTORES: Ferreira, I; Aguas, H; Mendes, L; Fernandes, F ; Fortunato, E; Martins, R;
PUBLICAÇÃO: 1998, FONTE: Symposium on Amorphous and Microcrystalline Silicon Technology-1998, at the MRS Spring Meeting in AMORPHOUS AND MICROCRYSTALLINE SILICON TECHNOLOGY-1998, VOLUME: 507
AUTORES: Ferreira, I; Aguas, H; Mendes, L; Fernandes, F ; Fortunato, E; Martins, R;
PUBLICAÇÃO: 1998, FONTE: Symposium on Amorphous and Microcrystalline Silicon Technology-1998, at the MRS Spring Meeting in AMORPHOUS AND MICROCRYSTALLINE SILICON TECHNOLOGY-1998, VOLUME: 507
INDEXADO EM: WOS
NO MEU: ResearcherID
520
TÃTULO: Influence of the H-2 dilution and filament temperature on the properties of P doped silicon carbide thin films produced by hot-wire technique
AUTORES: Ferreira, I; Aguas, H; Mendes, L; Fernandes, F; Fortunato, E; Cenimat, RM;
PUBLICAÇÃO: 1998, FONTE: Symposium on Amorphous and Microcrystalline Silicon Technology-1998, at the MRS Spring Meeting in AMORPHOUS AND MICROCRYSTALLINE SILICON TECHNOLOGY-1998, VOLUME: 507
AUTORES: Ferreira, I; Aguas, H; Mendes, L; Fernandes, F; Fortunato, E; Cenimat, RM;
PUBLICAÇÃO: 1998, FONTE: Symposium on Amorphous and Microcrystalline Silicon Technology-1998, at the MRS Spring Meeting in AMORPHOUS AND MICROCRYSTALLINE SILICON TECHNOLOGY-1998, VOLUME: 507
INDEXADO EM: WOS
NO MEU: ResearcherID