A. J. H. Maas
AuthID: R-00G-HTN
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TÃTULO: The 3(rd) ESTRO-EFOMP core curriculum for medical physics experts in radiotherapy Full Text
AUTORES: Garibaldi, Cristina; Essers, Marion; Heijmen, Ben; Bertholet, Jenny; Koutsouveli, Efi; Schwarz, Marco; Bert, Christoph; Bodale, Marin; Casares Magaz, Oscar; Gerskevitch, Eduard; Koniarova, Irena; Korreman, Stine; Lisbona, Albert; Lopez Medina, Antonio; Maas, Ad; Moeckli, Raphael; Moore, Margaret; Petrovic, Borislava; Piotrowski, Tomasz; Poli, Esmeralda; ...Mais
PUBLICAÇÃO: 2022, FONTE: RADIOTHERAPY AND ONCOLOGY, VOLUME: 170
AUTORES: Garibaldi, Cristina; Essers, Marion; Heijmen, Ben; Bertholet, Jenny; Koutsouveli, Efi; Schwarz, Marco; Bert, Christoph; Bodale, Marin; Casares Magaz, Oscar; Gerskevitch, Eduard; Koniarova, Irena; Korreman, Stine; Lisbona, Albert; Lopez Medina, Antonio; Maas, Ad; Moeckli, Raphael; Moore, Margaret; Petrovic, Borislava; Piotrowski, Tomasz; Poli, Esmeralda; ...Mais
PUBLICAÇÃO: 2022, FONTE: RADIOTHERAPY AND ONCOLOGY, VOLUME: 170
INDEXADO EM: 
Scopus 
WOS
Scopus WOS2
TÃTULO: Short pulse plasma immersion ion implantation of oxygen into silicon: determination of the energy distribution Full Text
AUTORES: Barradas, NP ; Maas, AJH; Mandl, S; Gunzel, R;
PUBLICAÇÃO: 1997, FONTE: 3rd International Workshop on Plasma-Based Ion Implantation in SURFACE & COATINGS TECHNOLOGY, VOLUME: 93, NÚMERO: 2-3
AUTORES: Barradas, NP ; Maas, AJH; Mandl, S; Gunzel, R;
PUBLICAÇÃO: 1997, FONTE: 3rd International Workshop on Plasma-Based Ion Implantation in SURFACE & COATINGS TECHNOLOGY, VOLUME: 93, NÚMERO: 2-3
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TÃTULO: Alpha-elastic recoil detection analysis of the energy distribution of oxygen ions implanted into silicon with plasma immersion ion implantation Full Text
AUTORES: Barradas, NP ; Maas, AJH; Mandl, S; Gunzel, R;
PUBLICAÇÃO: 1997, FONTE: JOURNAL OF APPLIED PHYSICS, VOLUME: 81, NÚMERO: 10
AUTORES: Barradas, NP ; Maas, AJH; Mandl, S; Gunzel, R;
PUBLICAÇÃO: 1997, FONTE: JOURNAL OF APPLIED PHYSICS, VOLUME: 81, NÚMERO: 10
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TÃTULO: Comparison of computer generated and ERDA depth profiles of oxygen implanted into silicon with plasma immersion ion implantation Full Text
AUTORES: Barradas, NP ; Maas, AJH; Mandl, S;
PUBLICAÇÃO: 1997, FONTE: NUCLEAR INSTRUMENTS & METHODS IN PHYSICS RESEARCH SECTION B-BEAM INTERACTIONS WITH MATERIALS AND ATOMS, VOLUME: 124, NÚMERO: 1
AUTORES: Barradas, NP ; Maas, AJH; Mandl, S;
PUBLICAÇÃO: 1997, FONTE: NUCLEAR INSTRUMENTS & METHODS IN PHYSICS RESEARCH SECTION B-BEAM INTERACTIONS WITH MATERIALS AND ATOMS, VOLUME: 124, NÚMERO: 1
