Lijian Meng
AuthID: R-000-960
51
TÃTULO: The effect of substrate temperature on the properties of sputtered tin oxide films Full Text
AUTORES: Li-jian Meng; M.P dos Santos;
PUBLICAÇÃO: 1994, FONTE: Thin Solid Films, VOLUME: 237, NÚMERO: 1-2
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TÃTULO: The influence of oxygen partial pressure and total pressure (O2 + Ar) on the properties of tin oxide films prepared by dc sputtering Full Text
AUTORES: Li-jian Meng; MP dos Santos;
PUBLICAÇÃO: 1994, FONTE: Vacuum, VOLUME: 45, NÚMERO: 12
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TÃTULO: Zinc oxide films prepared by dc reactive magnetron sputtering at different substrate temperatures Full Text
AUTORES: Li-Jian Meng; Andritschky, M; MP dos Santos;
PUBLICAÇÃO: 1994, FONTE: Vacuum, VOLUME: 45, NÚMERO: 1
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TÃTULO: Study of the structural properties of ZnO thin films by x-ray photoelectron spectroscopy Full Text
AUTORES: Li-Jian Meng; Carlos P Moreira de Sá; M.P dos Santos;
PUBLICAÇÃO: 1994, FONTE: Applied Surface Science, VOLUME: 78, NÚMERO: 1
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TÃTULO: THE EFFECT OF SUBSTRATE-TEMPERATURE ON THE PROPERTIES OF SPUTTERED TITANIUM-OXIDE FILMS Full Text
AUTORES: MENG, LJ; ANDRITSCHKY, M ; DOSSANTOS, MP;
PUBLICAÇÃO: 1993, FONTE: 6TH INTERNATIONAL CONF ON SOLID FILMS AND SURFACES in APPLIED SURFACE SCIENCE, VOLUME: 65-6, NÚMERO: C
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TÃTULO: Evaluation of deposition techniques of cathode materials for solid oxide fuel cells Full Text
AUTORES: J.A Labrincha; Li-Jian Meng; M.P.dos Santos; F.M.B Marques; J.R Frade;
PUBLICAÇÃO: 1993, FONTE: Materials Research Bulletin, VOLUME: 28, NÚMERO: 2
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TÃTULO: Investigations of titanium oxide films deposited by d.c. reactive magnetron sputtering in different sputtering pressures Full Text
AUTORES: Li-Jian Meng; M.P dos Santos;
PUBLICAÇÃO: 1993, FONTE: Thin Solid Films, VOLUME: 226, NÚMERO: 1
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AUTORES: Li-jian Meng; Andritschky, M; M.P dos Santos;
PUBLICAÇÃO: 1993, FONTE: Thin Solid Films, VOLUME: 223, NÚMERO: 2
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TÃTULO: Optical properties of ZnO thin films deposited by dc reactive magnetron sputtering Full Text
AUTORES: Li-jian Meng; Andritschky, M; MP dos Santos;
PUBLICAÇÃO: 1993, FONTE: Vacuum, VOLUME: 44, NÚMERO: 2
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TÃTULO: The influence of oxygen partial pressure on the properties of DC reactive magnetron sputtered titanium oxide films Full Text
AUTORES: Li-Jian Meng; M.P dos Santos;
PUBLICAÇÃO: 1993, FONTE: Applied Surface Science, VOLUME: 68, NÚMERO: 3
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