Faculdade de Ciências e Tecnologia (FCTUNL)
Uma Instituição (Grupo) no Authenticus é uma organização que engloba um conjunto de Investigadores (equipa da Instituição ou do Grupo). O conjunto de Investigadores depende da estrutura organizacional da instituição em cada ano e pode ser definido no perfil da Instituição, na secção “Investigadores”. Com base na equipa definida, o Authenticus produz listas de publicações, estatísticas e relatórios institucionais.
As publicações listadas no perfil da Instituição no Authenticus dependem de dois parâmetros:
- Investigadores associados à equipa da Instituição em cada ano.
- Origem das Publicações.
As publicações associadas à Instituição podem ter três origens:
- Publicações validadas pelos membros da equipa - Inclui todas as publicações validadas pelos membros da equipa; é necessário que a equipa da Instituição esteja definida.
- Todas as Publicadas pelos membros da equipa - Inclui todas as anteriores mais aquelas em que um dos autores foi identificado com um membro da equipa, ainda que não tenha sido validada; é necessário que a equipa da Instituição esteja definida.
- Com Base na Afiliação - inclui todas as publicações que têm a Instituição ou o Grupo mencionado na afiliação; não é necessário que a equipa da Instituição esteja definida mas, por outro lado, não é garantido que todas as publicações da Instituição sejam listadas.
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Publications Count: 12962
444 Team MembersFilters -> Year: 2024
AUTORES: Lidon, FC ; Teixeira, MG;
PUBLICAÇÃO: 2000, FONTE: PLANT PHYSIOLOGY AND BIOCHEMISTRY, VOLUME: 38, NÚMERO: 12, PÁGINAS: 969-978
AUTORES: Aguas, H ; Martins, R ; Fortunato, E ;
PUBLICAÇÃO: 2000, FONTE: Vacuum, VOLUME: 60, NÚMERO: 1-2, PÁGINAS: 247-254
AUTORES: Martins, R ; Ferreira, J; Goncalves, C; Nunes, P; Fortunato, E ; Marvao, AP; Martins, JI ;
PUBLICAÇÃO: 2000, FONTE: Joint FEMS Symposium/E-MRS Symposium H Strain in Materials: Analysis, Relatation and Properties in MATERIALS SCIENCE AND ENGINEERING A-STRUCTURAL MATERIALS PROPERTIES MICROSTRUCTURE AND PROCESSING, VOLUME: 288, NÚMERO: 2, PÁGINAS: 275-279
AUTORES: Martins, R ; Silva, V; Ferreira, I ; Domingues, A; Fortunato, E ;
PUBLICAÇÃO: 2000, FONTE: Symposium D - Measurement Techniques for Technological Plasmas at the 1999 E-MRS Spring Meeting in VACUUM, VOLUME: 56, NÚMERO: 1, PÁGINAS: 25-30
AUTORES: Martins, R ; Silva, V; Ferreira, I ; Domingues, A; Fortunato, E ;
PUBLICAÇÃO: 2000, FONTE: Spring Meeting of the European-Materials-Research-Society in MATERIALS SCIENCE AND ENGINEERING B-SOLID STATE MATERIALS FOR ADVANCED TECHNOLOGY, VOLUME: 69, PÁGINAS: 272-277
AUTORES: Capelo, JL ; Lavilla, I; Bendicho, C;
PUBLICAÇÃO: 2000, FONTE: ANALYTICAL CHEMISTRY, VOLUME: 72, NÚMERO: 20, PÁGINAS: 4979-4984
AUTORES: Vigário, R ; Särelä, J; Oja, E;
PUBLICAÇÃO: 2000, FONTE: ADVANCES IN INDEPENDENT COMPONENT ANALYSIS, PÁGINAS: 183-199
AUTORES: Ricardo Vigário ; Jaakko Särelä; Erkki Oja;
PUBLICAÇÃO: 2000, FONTE: Perspectives in Neural Computing - Advances in Independent Component Analysis, PÁGINAS: 183-199
AUTORES: Martins, R; Aguas, H ; Silva, V; Ferreira, I; Cabrita, A; Fortunato, E ;
PUBLICAÇÃO: 2000, FONTE: 5th European Workshop on Dusty and Collidal Plasmas in PLASMA PROCESSING AND DUSTY PARTICLES, VOLUME: 382, PÁGINAS: 21-28
AUTORES: Catarino, I ; Grégoire Bonfait ;
PUBLICAÇÃO: 2000, FONTE: 22nd International Conference on Low Temperature Physics in PHYSICA B, VOLUME: 284, NÚMERO: PART II, PÁGINAS: 2020-2021
AUTORES: Sarria, I; Henriques, C ; Fiolhais, C ; Pitarke, JM;
PUBLICAÇÃO: 2000, FONTE: PHYSICAL REVIEW B, VOLUME: 62, NÚMERO: 3, PÁGINAS: 1699-1705
AUTORES: Marat Mendes, R ; Dias, CJ ; Marat Mendes, JN;
PUBLICAÇÃO: 2000, FONTE: 5th European Conference on Smart Structures and Materials in FIFTH EUROPEAN CONFERENCE ON SMART STRUCTURES AND MATERIALS, VOLUME: 4073, PÁGINAS: 332-340
AUTORES: Moura Pires, J ; Prade, H;
PUBLICAÇÃO: 2000, FONTE: 9th IEEE International Conference on Fuzzy Systems (FUZZy-IEEE 2000) in NINTH IEEE INTERNATIONAL CONFERENCE ON FUZZY SYSTEMS (FUZZ-IEEE 2000), VOLS 1 AND 2, VOLUME: 1, PÁGINAS: 228-233
AUTORES: Rocha, F ; Vidinha, J ; Caetano, P ; Gomes, C ;
PUBLICAÇÃO: 2000, FONTE: Acta Universitatis Carolinae, Geologica, VOLUME: 44, NÚMERO: 2-4, PÁGINAS: 141-144
AUTORES: Dellacasa G.; Ramello L.; Baglin C.; Bussière A.; Caponi V.; Castor J.; Charnbon T.; Chevrot I.; Devaux A.; Espagnon B.; Fargeix J.; Force P.; Mourgues S.; Saturnini P.; Alexa C.; Boldea V.; Constantinescu S.; Dita S.; Cicalò C.; Macciotta P.; ...Mais
PUBLICAÇÃO: 2000, FONTE: Nuclear Physics A, VOLUME: 663-664, NÚMERO: 1-2, PÁGINAS: 721c-724c
AUTORES: Silva, RJC ; Fernandes, FMB ;
PUBLICAÇÃO: 2000, FONTE: 5th European Conference on Residual Stresses (ECRS 5) in ECRS 5: PROCEEDINGS OF THE FIFTH EUROPEAN CONFERENCE ON RESIDUAL STRESSES, VOLUME: 347-3, PÁGINAS: 609-614
AUTORES: Aguas, H ; Silva, V; Ferreira, I ; Fortunato, E ; Martins, R ;
PUBLICAÇÃO: 2000, FONTE: International Workshop on Semiconducting and Superconducting Materials in PHILOSOPHICAL MAGAZINE B-PHYSICS OF CONDENSED MATTER STATISTICAL MECHANICS ELECTRONIC OPTICAL AND MAGNETIC PROPERTIES, VOLUME: 80, NÚMERO: 4, PÁGINAS: 475-486
AUTORES: Aguas, H ; Silva, V; Ferreira, I ; Fortunato, E ; Martins, R ;
PUBLICAÇÃO: 2000, FONTE: International Workshop on Semiconducting and Superconducting Materials in Philosophical Magazine B: Physics of Condensed Matter; Statistical Mechanics, Electronic, Optical and Magnetic Properties, VOLUME: 80, NÚMERO: 4, PÁGINAS: 475-486
AUTORES: Malik, A; Vieira, M ; Fernandes, M ;
PUBLICAÇÃO: 2000, FONTE: International Workshop on Semiconducting and Superconducting Materials in PHILOSOPHICAL MAGAZINE B-PHYSICS OF CONDENSED MATTER STATISTICAL MECHANICS ELECTRONIC OPTICAL AND MAGNETIC PROPERTIES, VOLUME: 80, NÚMERO: 4, PÁGINAS: 781-790