Sérgio Nuno Canteiro de Magalhães
AuthID: R-001-JX8
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TÃTULO: Optical doping of AlxGa1-xN compounds by Ion Implantation of Tm ions Full Text
AUTORES: Fialho, M; Lorenz, K; Magalhaes, S; Redondo Cubero, A; Rodrigues, J; Santos, NF; Monteiro, T ; Alves, E ;
PUBLICAÇÃO: 2012, FONTE: 19th International Conference on Ion Implantation Technology (IIT) in ION IMPLANTATION TECHNOLOGY 2012, VOLUME: 1496
AUTORES: Fialho, M; Lorenz, K; Magalhaes, S; Redondo Cubero, A; Rodrigues, J; Santos, NF; Monteiro, T ; Alves, E ;
PUBLICAÇÃO: 2012, FONTE: 19th International Conference on Ion Implantation Technology (IIT) in ION IMPLANTATION TECHNOLOGY 2012, VOLUME: 1496
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TÃTULO: The role of the annealing temperature on the optical and structural properties of Eu doped GaN/AlN QD Full Text
AUTORES: Peres, M; Magalhaes, S; Rodrigues, J; Soares, MJ ; Fellmann, V; Neves, AJ ; Alves, E ; Daudin, B; Lorenz, K ; Monteiro, T ;
PUBLICAÇÃO: 2011, FONTE: Spring Meeting of the European-Materials-Research-Society (E-MRS) in OPTICAL MATERIALS, VOLUME: 33, NÚMERO: 7
AUTORES: Peres, M; Magalhaes, S; Rodrigues, J; Soares, MJ ; Fellmann, V; Neves, AJ ; Alves, E ; Daudin, B; Lorenz, K ; Monteiro, T ;
PUBLICAÇÃO: 2011, FONTE: Spring Meeting of the European-Materials-Research-Society (E-MRS) in OPTICAL MATERIALS, VOLUME: 33, NÚMERO: 7
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TÃTULO: Radiation damage formation and annealing in GaN and ZnO
AUTORES: Lorenz, K ; Peres, M; Franco, N; Marques, JG ; Miranda, SMC; Magalhaes, S; Monteiro, T ; Wesch, W; Alves, E ; Wendler, E;
PUBLICAÇÃO: 2011, FONTE: Conference on Oxide-based Materials and Devices II in OXIDE-BASED MATERIALS AND DEVICES II, VOLUME: 7940
AUTORES: Lorenz, K ; Peres, M; Franco, N; Marques, JG ; Miranda, SMC; Magalhaes, S; Monteiro, T ; Wesch, W; Alves, E ; Wendler, E;
PUBLICAÇÃO: 2011, FONTE: Conference on Oxide-based Materials and Devices II in OXIDE-BASED MATERIALS AND DEVICES II, VOLUME: 7940
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TÃTULO: Functionalizing self-assembled GaN quantum dot superlattices by Eu-implantation Full Text
AUTORES: Magalhaes, S; Peres, M; Fellmann, V; Daudin, B; Neves, AJ ; Alves, E ; Monteiro, T ; Lorenz, K ;
PUBLICAÇÃO: 2010, FONTE: JOURNAL OF APPLIED PHYSICS, VOLUME: 108, NÚMERO: 8
AUTORES: Magalhaes, S; Peres, M; Fellmann, V; Daudin, B; Neves, AJ ; Alves, E ; Monteiro, T ; Lorenz, K ;
PUBLICAÇÃO: 2010, FONTE: JOURNAL OF APPLIED PHYSICS, VOLUME: 108, NÚMERO: 8
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TÃTULO: High temperature annealing of Europium implanted AlN Full Text
AUTORES: Lorenz, K ; Magalhaes, S; Alves, E ; Peres, M; Monteiro, T ; Neves, AJ ; Bockowski, M;
PUBLICAÇÃO: 2010, FONTE: 15th International Conference of the Radiation Effects in Insulators in NUCLEAR INSTRUMENTS & METHODS IN PHYSICS RESEARCH SECTION B-BEAM INTERACTIONS WITH MATERIALS AND ATOMS, VOLUME: 268, NÚMERO: 19
AUTORES: Lorenz, K ; Magalhaes, S; Alves, E ; Peres, M; Monteiro, T ; Neves, AJ ; Bockowski, M;
PUBLICAÇÃO: 2010, FONTE: 15th International Conference of the Radiation Effects in Insulators in NUCLEAR INSTRUMENTS & METHODS IN PHYSICS RESEARCH SECTION B-BEAM INTERACTIONS WITH MATERIALS AND ATOMS, VOLUME: 268, NÚMERO: 19
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TÃTULO: Effect of annealing on AlN/GaN quantum dot heterostructures: Advanced ion beam characterization and X-ray study of low-dimensional structures Full Text
AUTORES: Magalhaes, S; Lorenz, K ; Franco, N; Barradas, NP ; Alves, E ; Monteiro, T ; Amstatt, B; Fellmann, V; Daudin, B;
PUBLICAÇÃO: 2010, FONTE: 7th International Symposium on Atomic Level Characterizations for New Materials and Devices in SURFACE AND INTERFACE ANALYSIS, VOLUME: 42, NÚMERO: 10-11
AUTORES: Magalhaes, S; Lorenz, K ; Franco, N; Barradas, NP ; Alves, E ; Monteiro, T ; Amstatt, B; Fellmann, V; Daudin, B;
PUBLICAÇÃO: 2010, FONTE: 7th International Symposium on Atomic Level Characterizations for New Materials and Devices in SURFACE AND INTERFACE ANALYSIS, VOLUME: 42, NÚMERO: 10-11
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TÃTULO: Influence of thermal annealing on the structural and optical properties of GaN/AlN quantum dots Full Text
AUTORES: Peres, M; Neves, AJ ; Monteiro, T ; Magalhaes, S; Alves, E ; Lorenz, K ; Okuno Vila, H; Fellmann, V; Bougerol, C; Daudin, B;
PUBLICAÇÃO: 2010, FONTE: E-MRS Fall Meeting on Wide Band Gap II-VI and III-V Semiconductors in PHYSICA STATUS SOLIDI B-BASIC SOLID STATE PHYSICS, VOLUME: 247, NÚMERO: 7
AUTORES: Peres, M; Neves, AJ ; Monteiro, T ; Magalhaes, S; Alves, E ; Lorenz, K ; Okuno Vila, H; Fellmann, V; Bougerol, C; Daudin, B;
PUBLICAÇÃO: 2010, FONTE: E-MRS Fall Meeting on Wide Band Gap II-VI and III-V Semiconductors in PHYSICA STATUS SOLIDI B-BASIC SOLID STATE PHYSICS, VOLUME: 247, NÚMERO: 7
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TÃTULO: Al1-xInxN/GaN bilayers: Structure, morphology, and optical properties Full Text
AUTORES: Lorenz, K ; Magalhaes, S; Franco, N; Barradas, NP ; Darakchieva, V; Alves, E ; Pereira, S ; Correia, MR ; Munnik, F; Martin, RW; O'Donnell, KP; Watson, IM;
PUBLICAÇÃO: 2010, FONTE: E-MRS Fall Meeting on Wide Band Gap II-VI and III-V Semiconductors in PHYSICA STATUS SOLIDI B-BASIC SOLID STATE PHYSICS, VOLUME: 247, NÚMERO: 7
AUTORES: Lorenz, K ; Magalhaes, S; Franco, N; Barradas, NP ; Darakchieva, V; Alves, E ; Pereira, S ; Correia, MR ; Munnik, F; Martin, RW; O'Donnell, KP; Watson, IM;
PUBLICAÇÃO: 2010, FONTE: E-MRS Fall Meeting on Wide Band Gap II-VI and III-V Semiconductors in PHYSICA STATUS SOLIDI B-BASIC SOLID STATE PHYSICS, VOLUME: 247, NÚMERO: 7
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TÃTULO: Indium kinetics during the plasma-assisted molecular beam epitaxy of semipolar (11-22) InGaN layers Full Text
AUTORES: Das, A; Magalhaes, S; Kotsar, Y; Kandaswamy, PK; Gayral, B; Lorenz, K ; Alves, E ; Ruterana, P; Monroy, E;
PUBLICAÇÃO: 2010, FONTE: APPLIED PHYSICS LETTERS, VOLUME: 96, NÚMERO: 18
AUTORES: Das, A; Magalhaes, S; Kotsar, Y; Kandaswamy, PK; Gayral, B; Lorenz, K ; Alves, E ; Ruterana, P; Monroy, E;
PUBLICAÇÃO: 2010, FONTE: APPLIED PHYSICS LETTERS, VOLUME: 96, NÚMERO: 18
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TÃTULO: Optical and Structural Properties of an Eu Implanted Gallium Nitride Quantum Dots/Aluminium Nitride Superlattice
AUTORES: Peres, M; Neves, AJ ; Monteiro, T ; Magalhaes, S; Franco, N; Lorenz, K ; Alves, E ; Damilano, B; Massies, J; Dussaigne, A; Grandjean, N;
PUBLICAÇÃO: 2010, FONTE: 2nd International Conference on Advanced Nano Materials in JOURNAL OF NANOSCIENCE AND NANOTECHNOLOGY, VOLUME: 10, NÚMERO: 4
AUTORES: Peres, M; Neves, AJ ; Monteiro, T ; Magalhaes, S; Franco, N; Lorenz, K ; Alves, E ; Damilano, B; Massies, J; Dussaigne, A; Grandjean, N;
PUBLICAÇÃO: 2010, FONTE: 2nd International Conference on Advanced Nano Materials in JOURNAL OF NANOSCIENCE AND NANOTECHNOLOGY, VOLUME: 10, NÚMERO: 4
