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Lijian Meng
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Article (54)
Proceedings Paper (5)
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1989
1988
1987
Order:
Ano Dsc
Ano Asc
Cit. WOS Dsc
IF WOS Dsc
Cit. Scopus Dsc
IF Scopus Dsc
Título Asc
Título Dsc
Results:
10
20
30
40
50
Publicações Confirmadas: 59
31
TÃTULO:
Effect of photooxidation on photoluminescence of N, N'-diphenyl-N, N'-di (m-tolyl)-benzidine and rubrene codoped PMMA thin films
AUTORES:
Hou, YB;
Meng, LJ
;
Dos Santos, MP
;
PUBLICAÇÃO:
2001
,
FONTE:
Acta Metallurgica Sinica (English Letters),
VOLUME:
14,
NÚMERO:
6
INDEXADO EM:
Scopus
NO MEU:
ORCID
32
TÃTULO:
Influence of sputtering pressure on the structure and properties of ZrO2 films prepared by rf reactive sputtering
Full Text
AUTORES:
Gao, PT;
Meng, LJ
;
dos Santos, MP
;
Teixeira, V
;
Andritschky, M
;
PUBLICAÇÃO:
2001
,
FONTE:
APPLIED SURFACE SCIENCE,
VOLUME:
173,
NÚMERO:
1-2
INDEXADO EM:
Scopus
WOS
CrossRef
NO MEU:
ORCID
33
TÃTULO:
A study of residual stress on rf reactively sputtered RuO2 thin films
Full Text
AUTORES:
Meng, LJ
;
dos Santos, MP
;
PUBLICAÇÃO:
2000
,
FONTE:
International-Union-of-Materials-Research-Societies International Conference on Advanced Materials (IUMRS-ICAM 99)
in
THIN SOLID FILMS,
VOLUME:
375,
NÚMERO:
1-2
INDEXADO EM:
Scopus
WOS
CrossRef
NO MEU:
ORCID
34
TÃTULO:
Characterisation of ZrO2 films prepared by rf reactive sputtering at different O-2 concentrations in the sputtering gases
Full Text
AUTORES:
Gao, PT;
Meng, LJ
;
dos Santos, MP
;
Teixeira, V
;
Andritschky, M
;
PUBLICAÇÃO:
2000
,
FONTE:
VACUUM,
VOLUME:
56,
NÚMERO:
2
INDEXADO EM:
Scopus
WOS
CrossRef
NO MEU:
ORCID
35
TÃTULO:
Influence of sputtering power and the substrate-target distance on the properties of ZrO2 films prepared by RF reactive sputtering
Full Text
AUTORES:
Gao, PT;
Meng, LJ
;
dos Santos, MP
;
Teixeira, V
;
Andritschky, M
;
PUBLICAÇÃO:
2000
,
FONTE:
27th International Conference on Metallurgical Coatings and Thin Films
in
THIN SOLID FILMS,
VOLUME:
377
INDEXADO EM:
Scopus
WOS
CrossRef
NO MEU:
ORCID
36
TÃTULO:
Influence of the target-substrate distance on the properties of indium tin oxide films prepared by radio frequency reactive magnetron sputtering
AUTORES:
Meng, LJ
;
dos Santos, MP
;
PUBLICAÇÃO:
2000
,
FONTE:
46th National Symposium of the American-Vacuum-Society
in
JOURNAL OF VACUUM SCIENCE & TECHNOLOGY A-VACUUM SURFACES AND FILMS,
VOLUME:
18,
NÚMERO:
4
INDEXADO EM:
Scopus
WOS
CrossRef
NO MEU:
ORCID
37
TÃTULO:
Study of ZrO2-Y2O3 films prepared by rf magnetron reactive sputtering
Full Text
AUTORES:
Gao, PT;
Meng, LJ
;
dos Santos, MP
;
Teixeira, V
;
Andritschky, M
;
PUBLICAÇÃO:
2000
,
FONTE:
27th International Conference on Metallurgical Coatings and Thin Films
in
THIN SOLID FILMS,
VOLUME:
377
INDEXADO EM:
Scopus
WOS
CrossRef
NO MEU:
ORCID
38
TÃTULO:
Characterization of RuO2 films prepared by RF reactive magnetron sputtering
AUTORES:
Meng, LJ
;
dos Santos, MP
;
PUBLICAÇÃO:
1999
,
FONTE:
Symposium on Ferroelectric Thin Films VII
in
FERROELECTRIC THIN FILMS VII,
VOLUME:
541
INDEXADO EM:
Scopus
WOS
NO MEU:
ORCID
39
TÃTULO:
Characterization of RuO2 films prepared by rf reactive magnetron sputtering
Full Text
AUTORES:
Meng, LJ
;
dos Santos, MP
;
PUBLICAÇÃO:
1999
,
FONTE:
APPLIED SURFACE SCIENCE,
VOLUME:
147,
NÚMERO:
1-4
INDEXADO EM:
Scopus
WOS
CrossRef
NO MEU:
ORCID
40
TÃTULO:
Effect of substrate temperature on the properties of RuO2 films prepared by RF reactive magnetron sputtering
AUTORES:
Meng, LJ
;
Fortunato, E
; Nunos, R;
dos Santos, MP
;
PUBLICAÇÃO:
1998
,
FONTE:
9th International Meeting on Ferroelectricity (IMF-9)
in
JOURNAL OF THE KOREAN PHYSICAL SOCIETY,
VOLUME:
32,
NÚMERO:
4 SUPPL.
INDEXADO EM:
Scopus
WOS
NO MEU:
ORCID
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