31
TÍTULO: Effect of photooxidation on photoluminescence of N, N'-diphenyl-N, N'-di (m-tolyl)-benzidine and rubrene codoped PMMA thin films
AUTORES: Hou, YB; Meng, LJ ; Dos Santos, MP;
PUBLICAÇÃO: 2001, FONTE: Acta Metallurgica Sinica (English Letters), VOLUME: 14, NÚMERO: 6
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TÍTULO: Influence of sputtering pressure on the structure and properties of ZrO2 films prepared by rf reactive sputtering  Full Text
AUTORES: Gao, PT; Meng, LJ ; dos Santos, MP ; Teixeira, V ; Andritschky, M ;
PUBLICAÇÃO: 2001, FONTE: APPLIED SURFACE SCIENCE, VOLUME: 173, NÚMERO: 1-2
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TÍTULO: A study of residual stress on rf reactively sputtered RuO2 thin films  Full Text
AUTORES: Meng, LJ ; dos Santos, MP ;
PUBLICAÇÃO: 2000, FONTE: International-Union-of-Materials-Research-Societies International Conference on Advanced Materials (IUMRS-ICAM 99) in THIN SOLID FILMS, VOLUME: 375, NÚMERO: 1-2
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TÍTULO: Influence of sputtering power and the substrate-target distance on the properties of ZrO2 films prepared by RF reactive sputtering  Full Text
AUTORES: Gao, PT; Meng, LJ ; dos Santos, MP ; Teixeira, V ; Andritschky, M ;
PUBLICAÇÃO: 2000, FONTE: 27th International Conference on Metallurgical Coatings and Thin Films in THIN SOLID FILMS, VOLUME: 377
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TÍTULO: Influence of the target-substrate distance on the properties of indium tin oxide films prepared by radio frequency reactive magnetron sputtering
AUTORES: Meng, LJ ; dos Santos, MP ;
PUBLICAÇÃO: 2000, FONTE: 46th National Symposium of the American-Vacuum-Society in JOURNAL OF VACUUM SCIENCE & TECHNOLOGY A-VACUUM SURFACES AND FILMS, VOLUME: 18, NÚMERO: 4
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TÍTULO: Study of ZrO2-Y2O3 films prepared by rf magnetron reactive sputtering  Full Text
AUTORES: Gao, PT; Meng, LJ ; dos Santos, MP ; Teixeira, V ; Andritschky, M ;
PUBLICAÇÃO: 2000, FONTE: 27th International Conference on Metallurgical Coatings and Thin Films in THIN SOLID FILMS, VOLUME: 377
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TÍTULO: Characterization of RuO2 films prepared by RF reactive magnetron sputtering
AUTORES: Meng, LJ ; dos Santos, MP ;
PUBLICAÇÃO: 1999, FONTE: Symposium on Ferroelectric Thin Films VII in FERROELECTRIC THIN FILMS VII, VOLUME: 541
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39
TÍTULO: Characterization of RuO2 films prepared by rf reactive magnetron sputtering  Full Text
AUTORES: Meng, LJ ; dos Santos, MP ;
PUBLICAÇÃO: 1999, FONTE: APPLIED SURFACE SCIENCE, VOLUME: 147, NÚMERO: 1-4
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TÍTULO: Effect of substrate temperature on the properties of RuO2 films prepared by RF reactive magnetron sputtering
AUTORES: Meng, LJ ; Fortunato, E ; Nunos, R; dos Santos, MP ;
PUBLICAÇÃO: 1998, FONTE: 9th International Meeting on Ferroelectricity (IMF-9) in JOURNAL OF THE KOREAN PHYSICAL SOCIETY, VOLUME: 32, NÚMERO: 4 SUPPL.
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